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電子グレードの四フッ化炭素CF4 99.999%

電子グレードのフッ化炭素CF4 99.999% は、マイクロエレクトロニクス業界で最も広く使用されているプラズマエッチングガスです。シリコン、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、リンシリコンガラス、タングステンなどの薄膜材料のエッチングに広く使用されています。それはまた広く使用されています......

リリース時間：2025-04-26

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電子グレードのフッ化炭素CF4 99.999% は、マイクロエレクトロニクス業界で最も広く使用されているプラズマエッチングガスです。シリコン、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、リンシリコンガラス、タングステンなどの薄膜材料のエッチングに広く使用されています。また、電子デバイスの表面洗浄、太陽電池の製造、レーザー技術、低温冷凍、ガス絶縁、漏れ検出剤、宇宙ロケットの姿勢の制御、洗剤、プリント回路生产における润滑油およびブレーキ液。その強い化学的安定性のために、電子グレードのフッ化炭素CF4 99.999% は、金属製錬およびプラスチック産業でも使用できます。今日の超大規模集積回路で使用されている電子ガスの特性と開発傾向は、超純粋で、超クリーンで、多種類で、マルチ仕様です。独自のマイクロエレクトロニクス産業の発展を促進するために、各国は特別な電子ガス生産技術の開発にますます注意を払っています。現在、四フッ化炭素 (CF4) は、比較的低価格で長い間エッチングガス市場を占めてきたため、幅広い開発の可能性があります。

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