テトラフルオリドCF4は、さまざまなウェーハエッチングプロセス{.}炭素テトラフルオリドCF4に使用されるフッ素およびフリーラジカルのカーボンフッ化物の供給源です。換気されていないエリアでの窒息{.無線周波数プラズマ環境では、フッ素フリーラジカルが典型的なカーボントリフルオリドまたはディフルオリド炭素.高純度のカーボンテトラフルオリドの形で現れます。さまざまな特別なコントロール（半導体異方性制御など）が空気または酸素に遭遇したときの.その高純度ガスと高純度の炭素四重葉ガスと高純度の陽イオン酸素の混合物は、シリコン、シリコン、シリコン、シリコンの薄con、シリコングランドングラン化型のろうそくのエッチングで広く使用できます。材料.
カーボンテトラフルオリドCF4は、高濃度で麻酔効果があります.その高純度ガスと高純度の酸素との混合物は、マイクロエレクトロニクス産業で最も広く使用されているプラズマエッチングガス.であり、低温培地としても使用できます。熱の安定性は多くの試薬に対して不活性であり、1000度で加水分解しません. CF結合の非常に強力な化学的安定性、CF4によって表されるPerfluorocarbonsのために、室温で銅、ニッケル、およびタングステンとは反応しません. {
テトラフルオロメタン（CF4）は安定性が高く、完全に炎症性のないガスです.室温で酸、アルカリ、酸化剤とは反応しませんが、Cu、Ni、W、MOなどの移行金属とは反応しません。室温でのアンモニアソディウム金属試薬、およびCF4は、高温でアルカリ金属、アルカリの土金金属、およびSiO2と反応して、対応するフッ化物. CF4を生成し、800度で分解し始め、CO2とCO2でCO2をフォーマに反応し、電気ARCを使用しています{他のフルオロカーボンを合成するための炭素アーク温度.
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